Genes: 二维工艺仿真软件

Genes 是墨研公司自主开发的二维工艺仿真软件，支持硅以及碳化硅的工艺仿真。软件包含了完整的工艺模块仿真能力，包含刻蚀，沉积，离子注入，扩散，氧化，外延生长以及硅化物生长。

底层几何库

  • 高效和鲁棒的底层几何库
  • 基于精确数学计算的几何引擎
  • 支持点、直线、多边形之间的几何操作
  • 快速直线相交和多边形布尔运算

底层网格库

基于四叉树的高质量网格生成器

四叉树作为背景网格，边界处进行特殊处理以保证网格质量

优势：

  • 适合自适应网格优化
  • 插值友好

底层偏微分方程库

  • 基于符号的偏微分方程求解代码自动生成
  • 支持并行仿真加速

刻蚀

支持多种刻蚀模式:

  • 各向同性刻蚀
  • 各向异性刻蚀
  • 晶向相关的刻蚀
  • 坐标轴相关的刻蚀
  • 梯形刻蚀
  • 自定义刻蚀区域
  • CMP

沉积

支持多种沉积模式:

  • 各向同性沉积
  • 各向异性沉积
  • 晶向相关的沉积
  • 坐标轴相关的沉积
  • 自定义沉积区域
  • 沉积后CMP

离子注入

基于解析公式的离子注入

  • 最终掺杂分布取决于离子能量, 剂量, 倾斜角, 旋转角, 以及表面的屏蔽层
  • 晶格损伤基于 Hobler 模型
  • 注入表进过蒙卡方法校准
  • 支持并行加速

扩散

稳健的扩散模型求解器

  • 基于弹性PDE框架
  • 支持Fermi, 3-stream and 5-stream 模型，以及簇团动力学模型
  • 支持参数校准功能
  • 支持并行加速功能

氧化

先进氧化模型求解器

  • 支持多种氧化模型
  • 支持动网格技术
  • 支持氧化参数校准功能
  • 支持并行加速功能

浅槽隔离

STI生成器

  • 参数化STI建模工具